MICROAUTOMATION 2066 Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Wafer cleaners are specialized devices used for removing contaminants from semiconductor wafers. They ensure optimal wafer surface integrity, supporting efficient semiconductor fabrication processes.
Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Ehemalige Chemie-Tankbelegung:
Tank 1: EKC
Tank 2: P1331
Tank 3 und Tank 4: DMF
Tank 5: IPA
Datenblätter siehe Anhang.
Anlagenfehler:
Die Filterkerze vom Tank 4 ist undicht.
Die Tankheizung 1 vom Tank 4 ist defekt und abgeklemmt.
Die Tankheizung 3 vom Tank 4 ist defekt und abgeklemmt.
Log in with your username/email address